特許
J-GLOBAL ID:200903034902820083

保管庫

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 梶 良之 ,  須原 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-403636
公開番号(公開出願番号):特開2005-166952
出願日: 2003年12月02日
公開日(公表日): 2005年06月23日
要約:
【課題】外部配管を少なくでき、必要に応じて拡張が容易なガス通路を備えることによりコストパフォーマンスを高めた保管庫を提供する。【解決手段】 シリコンウエハを収納したウエハ収納ケースを複数載置可能な載置面6fと、載置された状態の前記ウエハ収納ケースの内部に不活性ガスを供給する不活性ガス供給用通路と、前記ウエハ収納ケースの内部雰囲気を排気するガス排気用通路と、を備える。前記載置面6fの構成部材6を支持する部材2x,2yにはアルミニウム押出し材が使用されている。前記不活性ガス供給用通路及び/又は前記ガス排気用通路の少なくとも一部は、前記アルミニウム押出し材の押出し成形時に内部に形成された少なくとも1つの連通穴12からなる。【選択図】図3
請求項(抜粋):
シリコンウエハを収納したウエハ収納ケースを複数載置可能な載置面と、 載置された状態の前記ウエハ収納ケースの内部に不活性ガスを供給する不活性ガス供給用通路と、 前記ウエハ収納ケースの内部雰囲気を排気するガス排気用通路と、を備えた保管庫であって、 前記載置面の構成部材を支持する部材の少なくとも一部にアルミニウム押出し材が使用されており、 前記不活性ガス供給用通路及び/又は前記ガス排気用通路の少なくとも一部は、前記アルミニウム押出し材の長手方向に形成された少なくとも1つの連通穴からなることを特徴とする保管庫。
IPC (2件):
H01L21/68 ,  B65G1/00
FI (4件):
H01L21/68 T ,  B65G1/00 521Z ,  B65G1/00 537Z ,  B65D85/38 Z
Fターム (30件):
3E096AA03 ,  3E096BA16 ,  3E096BB08 ,  3E096CA30 ,  3E096CB10 ,  3E096DA30 ,  3E096EA06Y ,  3E096FA01 ,  3E096FA40 ,  3E096GA20 ,  3F022AA08 ,  3F022BB10 ,  3F022CC02 ,  3F022EE05 ,  3F022FF01 ,  3F022JJ07 ,  3F022KK20 ,  5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031EA01 ,  5F031EA14 ,  5F031EA18 ,  5F031FA03 ,  5F031FA09 ,  5F031NA15 ,  5F031PA02 ,  5F031PA05 ,  5F031PA23 ,  5F031PA30
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 半導体製造装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-314303   出願人:国際電気株式会社
  • ウェハー保管装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-158539   出願人:全協化成工業株式会社
審査官引用 (8件)
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-329889   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 半導体製造装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-314303   出願人:国際電気株式会社
  • ウェハー保管装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-158539   出願人:全協化成工業株式会社
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