特許
J-GLOBAL ID:200903034915775290

低抵抗p型SrTiO3の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西 義之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-087069
公開番号(公開出願番号):特開2001-274373
出願日: 2000年03月23日
公開日(公表日): 2001年10月05日
要約:
【要約】【課題】 これまで、低抵抗のp型SrTiO3 を作成することは困難であった。SrTiO3 について、低抵抗p型化することができれば、すでに実現している低抵抗n型のSrTiO3 と組み合わせることにより酸化物エレクトロニクスへの道が開ける。【構成】 ペロブスカイト型遷移金属酸化物SrTiO3 の結晶成長中にアクセプターとドナーを同時にドーピングする。
請求項(抜粋):
ペロブスカイト型遷移金属酸化物SrTiO3 の結晶成長中にアクセプターとドナーを同時にドーピングすることを特徴とする低抵抗p型SrTiO3 の製造方法。
IPC (7件):
H01L 29/24 ,  C30B 29/32 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242
FI (6件):
H01L 29/24 ,  C30B 29/32 C ,  H01L 21/203 M ,  H01L 21/205 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/10 631
Fターム (22件):
4G077AA03 ,  4G077BC42 ,  4G077DB01 ,  4G077EB01 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AC19 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045DA60 ,  5F045DA66 ,  5F045DP03 ,  5F083AD12 ,  5F083FR01 ,  5F083JA14 ,  5F083JA47 ,  5F083JA60 ,  5F103AA01 ,  5F103BB23 ,  5F103DD30 ,  5F103JJ01 ,  5F103KK10
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
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