特許
J-GLOBAL ID:200903034977639090

欠陥検査装置、欠陥検査方法、光学式走査装置、半導体デバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 家入 健
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-327893
公開番号(公開出願番号):特開2004-163198
出願日: 2002年11月12日
公開日(公表日): 2004年06月10日
要約:
【課題】信号強度のロスが少なく、正確で精度の高い欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供すること。【解決手段】本発明にかかる欠陥検査装置は光ビームを発生するレーザー光源1と、観察すべき試料台11と、前記光源からの光ビームを集束して試料の表面に照射する対物レンズ9と、試料で反射した光ビームを試料に入射する光ビームから分離するハーフミラー6aと、分離された光ビームを分岐するウェッジ17を備えている。そして、試料台11をラスタ走査して試料全面を検査する。ウェッジによって分岐された一方の光ビームを検出する光検出器19aともう一方の光ビームを検出する光検出器19bをさらに備えている。この光検出器19a、19bの信号の差によって凸状欠陥か凸状欠陥かを判別する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光ビームを発生する光源と、 試料を載置する試料台と、 前記試料台に載置された試料と前記試料に前記光源から照射された光ビームとを、相対的に移動させる走査手段と、 前記試料で反射した光ビームを異なる複数の光ビームに分岐する光分岐手段と、 前記光分岐手段によって分岐された第1の光ビームを検出する第1の光検出手段と、 前記光分岐手段によって分岐された第2の光ビームを検出する第2の光検出手段と、 第1の光検出手段から出力された信号と前記第2の光検出手段から出力された信号の差分に基づき、差信号を求める回路と、 前記差信号と予め定められた第1の値とを比較する第1の比較回路と、 前記差信号と予め定められた第2の値とを比較する第2の比較回路とを備え、 前記第1の比較回路及び第2の比較回路の比較結果に基づいて、前記試料の欠陥検査を行う、欠陥検査装置。
IPC (4件):
G01N21/956 ,  G01B11/30 ,  G03F1/08 ,  H01L21/027
FI (4件):
G01N21/956 A ,  G01B11/30 A ,  G03F1/08 S ,  H01L21/30 502V
Fターム (44件):
2F065AA49 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065FF44 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065LL00 ,  2F065LL13 ,  2F065LL20 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL42 ,  2F065MM02 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ06 ,  2F065QQ25 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051AB20 ,  2G051BA10 ,  2G051BB11 ,  2G051BB15 ,  2G051BC05 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051CB06 ,  2G051CC09 ,  2G051CC12 ,  2G051CC17 ,  2G051CC20 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA08 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2H095BD04 ,  2H095BD13 ,  2H095BD28
引用特許:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (29件)
  • 特開昭63-298034
  • 特開昭63-298034
  • 特開昭57-053839
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