特許
J-GLOBAL ID：200903041177676199

欠陥検査装置

発明者：
楠瀬 治彦

楠瀬 治彦 について


出願人/特許権者：
レーザーテック株式会社

レーザーテック株式会社 について


代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-199031
公開番号（公開出願番号）：特開2001-027611
出願日： 1999年07月13日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：
【要約】【課題】 試料表面の微小な欠陥の存在及びその性状を正確に検出できる欠陥検出装置を実現する。【解決手段】 光ビームを干渉光学系(30)により互いに干渉性を有する2本のサブビームに変換し、試料表面(11)に向けて投射する。試料表面(11)欠陥が存在する場合、2本のサブビーム間には欠陥の高さに相当する位相差が導入される。よって、試料表面からの反射サブビームを合成することにより、この合成ビームには欠陥の高さに相当する位相差が含まれ、この位相差を検出することにより欠陥の大きさを判別することができる。さらに、欠陥が凹状か凸状かは位相シフト法を利用することにより判別することができる。
請求項（抜粋）：
光ビームを発生する光源装置と、この光ビームを第1の方向に偏向するビーム偏向装置と、入射する光ビームをスポット状に集束して欠陥検査すべき試料に向けて投射する対物レンズと、欠陥検査すべき試料を支持する試料ステージと、前記ビーム偏向装置と対物レンズとの間に配置され、前記ビーム偏向装置から出射した光ビームを互いに干渉性を有する第1及び第2の2本のサブビームに変換すると共に、検査すべき試料表面で反射した互いに関連するサブビーム同士を合成して試料表面に関する高さ情報を位相情報として含む干渉ビームを発生する干渉光学系と、前記干渉光学系から出射した干渉ビームを受光する光検出器と、前記光検出器からの出力信号に基づいて試料表面の欠陥の存在を表す欠陥検出信号を発生する信号処理回路とを具えることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件)：
G01N 21/88 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N 21/88 645 A ,  H01L 21/66 J ,  G01N 21/88 630 A
Fターム (34件)：
2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AA71 ,  2G051AB07 ,  2G051AC01 ,  2G051AC30 ,  2G051BA01 ,  2G051BA10 ,  2G051BB11 ,  2G051BC05 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CC13 ,  2G051CC20 ,  2G051EA04 ,  2G051EA08 ,  2G051EA14 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106AA20 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106CA38 ,  4M106DB01 ,  4M106DB02 ,  4M106DB04 ,  4M106DB07 ,  4M106DB08 ,  4M106DB13 ,  4M106DB16 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ05 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ21
引用特許：
審査官引用 (9件)
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