特許

J-GLOBAL ID：200903035304962147

光学部材の修正装置及びその修正方法及びそれを用いたペリクルの修正装置

発明者： 坂田 陽 ,  坂井 香子 ,  伊藤 尚子 ,  福島 祐一
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-049148
公開番号（公開出願番号）：特開2005-241782
出願日： 2004年02月25日
公開日（公表日）： 2005年09月08日
要約：

【課題】フォトマスクに光透過性を有する光学部材を備えた露光用原版を修正する光学部材の修正装置であって、ペリクル等の光学部材の膜厚の不均一やペリクル膜等の光学部材を貼り付け時に生じた応力歪みを、該ペリクル膜等の光学部材を修正する装置及びその方法を提供することである。【解決手段】、光学部材の光学的歪み量を測定する測定手段と、光学部材の屈折率を変化させるレーザ照射手段と、光学部材を備えた露光用原版を載置して、該露光用原版の面内及び光学部材の膜厚方向に対して任意の位置に移動可能とするステージ移動手段とからなる光学部材の修正装置であって、該修正手段は、フォトマスク上に光学部材を備えた後に、該光学部材の膜厚内部にレーザ光を集光してレーザ照射を行うことを特徴とする光学部材の修正装置。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

フォトマスクに光透過性を有する光学部材を備えた露光用原版を修正する光学部材の修正装置において、光学部材の光学的歪み量を測定する測定手段と、光学部材の屈折率を変化させるレーザ照射手段と、光学部材を備えた露光用原版を載置して、該露光用原版の面内及び光学部材の膜厚方向に対して任意の位置に移動可能とするステージ移動手段とからなることを特徴とする光学部材の修正装置。

IPC (2件)：

G03F1/14 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F1/14 J ,  H01L21/30 502P

Fターム (5件)：

2H095BA07 ,  2H095BC33 ,  2H095BC39 ,  2H095BD08 ,  2H095BD34

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ペリクル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-259161   出願人：旭硝子株式会社
• 特許第3208730号公報
  

審査官引用 (4件)

• 位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-173050   出願人：日本電気株式会社
• 基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-213515   出願人：株式会社日立製作所
• 位相シフタマスク並び位相シフタマスクの欠陥修正方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-261804   出願人：株式会社日立製作所
• 位相シフトマスクの欠陥修正方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-082733   出願人：ホーヤ株式会社