特許
J-GLOBAL ID：200903035487836277
二重露光用フォトマスク及びこれを用いた二重露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉田 研二
, 石田 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-000396
公開番号（公開出願番号）：特開2007-072423
出願日： 2006年01月05日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：
【課題】フォトマスクの誤整列及び取替えによる収率及び量産性の低下を最小化しながら、二重露光によって一層微細化された感光膜パターンを形成できる二重露光用フォトマスクを提供する。また、前記二重露光用フォトマスクを用いた二重露光方法を提供する。【解決手段】上下に均等に配列された第1領域aと第2領域bとに区分されるマスク基板102と;該マスク基板102の前記第1領域a上に形成される第1マスクパターン104と;前記マスク基板102の前記第2領域b上に形成される第2マスクパターン106と;を含んで二重露光用フォトマスクを構成する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
上下に均等に配列された第1領域と第2領域とに区分されるマスク基板と;
該マスク基板の第1領域上に形成される第1マスクパターンと;
前記マスク基板の第2領域上に形成される第2マスクパターンと;
を含むことを特徴とする二重露光用フォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 D
, H01L21/30 514A
2H095BB02
, 5F046AA02
, 5F046AA13
, 5F046AA25
, 5F046CB17
, 5F046DA01
出願人引用 (2件)
-
米国特許第6,821,689号明細書
-
米国特許第6,686,102号明細書
審査官引用 (11件)
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