フォトマスクブランクの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：吉田研二 , 石田純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-312115
公開番号（公開出願番号）：特開2005-078041
出願日： 2003年09月04日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】プリント配線基板等の製造過程の一工程であるフォト工程において用いられるフォトマスクを、高い精度、高い耐久性を有するものとし、安価に提供する。【解決手段】フォトマスクの配線パタンが形成される前のフォトマスクブランクの製造過程において、基板10上に、ニッケルの無電解メッキをすることによりニッケル膜よりなるマスク層22を形成する。無電解メッキを行う前工程として、洗浄槽14内に配置された超音波振動子16より超音波を照射して、超音波洗浄を行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明基板を洗浄する洗浄工程と、前記基板上にニッケルの無電解メッキによりマスク層を形成するマスク層形成工程と、を有する、プリント配線基板用のフォトマスクブランクの製造方法。

IPC (3件)：

G03F1/08 , C23C18/31 , H05K3/00

FI (4件)：

G03F1/08 L , G03F1/08 X , C23C18/31 A , H05K3/00 E

Fターム (13件)：

2H095BA11 , 2H095BB20 , 2H095BB22 , 2H095BB23 , 2H095BB35 , 2H095BC05 , 2H095BC08 , 4K022AA03 , 4K022AA42 , 4K022BA14 , 4K022CA03 , 4K022DA01 , 4K022EA01

引用特許：

審査官引用 (8件)

露光用マスクとその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-114507 出願人：三菱製紙株式会社
露光用マスクとその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-284675 出願人：三菱製紙株式会社
特開昭64-064146

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