特許
J-GLOBAL ID：200903036399871255
リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のコンポーネントを制御する方法およびデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-043039
公開番号（公開出願番号）：特開2007-258695
出願日： 2007年02月23日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：
【課題】嵩張らず、熱調整を必要としないリソグラフィ装置の基板支持体またはパターニングデバイスの支持体の駆動システムを提供する。【解決手段】コンポーネント11は、第1アクチュエータ12によってリソグラフィ装置内の基準に対して動かされる。コンポーネント11と反作用質量体13との間に力を加える第2アクチュエータ15を使用して、リソグラフィ装置内の基準に対するコンポーネント11の位置、速度および加速度のうち少なくとも1つを調節する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置内の基準に対して動くように構成されたコンポーネントと、
リソグラフィ装置内の前記基準に対して前記コンポーネントを動かすように構成された第1アクチュエータと、
反作用質量体と、
前記コンポーネントと前記反作用質量体の間に力を加えるように構成された第2アクチュエータと、
前記第2アクチュエータによって前記コンポーネントに加えられる反力が、前記リソグラフィ装置内の前記基準に対する前記コンポーネントの位置、速度または加速度のうち少なくとも1つを調節できるように、前記第2アクチュエータを制御するように構成された制御装置と、
を備えるリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515F
, H01L21/30 515G
, H01L21/68 K
5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031CA07
, 5F031HA55
, 5F031JA45
, 5F031MA27
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC03
, 5F046CC13
, 5F046CC18
