特許

J-GLOBAL ID：200903036496545095

F2エキシマレーザー用合成石英ガラス光学材料及び光学部材

発明者： 藤ノ木 朗 ,  西村 裕幸 ,  横田 透 ,  柳沼 康之 ,  佐藤 彰 ,  上田 哲司
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 武田 正彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-158943
公開番号（公開出願番号）：特開2001-342034
出願日： 2000年05月29日
公開日（公表日）： 2001年12月11日
要約：

【要約】【課題】 F2エキシマレーザーの発振波長である157nmでの光透過率が高く、F2エキシマレーザー照射に対する耐レーザー性が高いと同時に、F2エキシマレーザーを使用する程の微細線幅描画に適した均質性を持った合成石英ガラス光学材料及びそれを用いて形成された光学部材を提供する事を目的とする。【解決手段】 本発明のF2エキシマレーザー用合成石英ガラス光学材料は、OH基濃度が0.5ppm以下、フッ素濃度が0.1〜2 mol%、水素分子濃度が5×1016分子/cm3以下、フッ素濃度の最大値と最小値の差が20 mol ppm以内であり、屈折率の最大値と最小値の差が2×10-5以下であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

OH基濃度が0.5ppm以下、フッ素濃度が0.1〜2 mol%、水素分子濃度が5×1016分子/cm3以下、フッ素濃度の最大値と最小値の差が20 mol ppm以内であり、屈折率の最大値と最小値の差が2×10-5以下である事を特徴とするF2エキシマレーザー用合成石英ガラス光学材料。

IPC (4件)：

C03C 3/06 ,  C03B 20/00 ,  G02B 1/00 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C03C 3/06 ,  C03B 20/00 E ,  G02B 1/00 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (14件)：

4G014AH15 ,  4G014AH21 ,  4G014AH23 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC07 ,  4G062MM02 ,  4G062NN16 ,  4G062NN20 ,  5F046CA04 ,  5F046CB08 ,  5F046CB10 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17

引用特許：

出願人引用 (9件)

• F2エキシマレーザー光学部材用石英ガラス材料及び光学部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-371654   出願人：信越石英株式会社, 株式会社半導体先端テクノロジーズ
• 投影リソグラフィ用フォトマスク基板及びその作成方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-605531   出願人：コーニングインコーポレイテッド
• 特開平3-088743
  
• 真空紫外線リソグラフィーに用いられる投影レンズ用シリカガラス光学材料および投影レンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-209470   出願人：信越石英株式会社
• 真空紫外線リソグラフィーに用いられる投影レンズ用シリカガラス光学材料およびその製造方法ならびに投影レンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-332853   出願人：信越石英株式会社
• 特開平3-015013
  
• F2エキシマレーザー透過用光学シリカガラス部材及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-261772   出願人：信越石英株式会社
• 特開平3-109233
  
• 真空紫外光透過リソグラフィ用オキシフッ化ケイ素ガラス
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-598901   出願人：コーニングインコーポレイテッド