特許
J-GLOBAL ID：200903036499670567

使用済レジスト用剥離液の再生方法

発明者：
石原 茂樹

石原 茂樹 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-114180
公開番号（公開出願番号）：特開2000-305285
出願日： 1999年04月21日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：
【要約】【課題】アルカノールアミン化合物を含有する使用済レジスト用剥離液の剥離特性を低下することがない上に、作業環境の悪化もない使用済レジスト用剥離液の再生方法を提供すること。【構成】アルカノールアミン化合物を含有する使用済レジスト用剥離液の再生方法において、前記使用済レジスト用剥離液を蒸留し、得られた留出物にアルカリ化合物を配合してシアン化合物を除去し、レジスト用剥離液を再生することを特徴とする使用済レジスト用剥離液の再生方法。
請求項（抜粋）：
アルカノールアミン化合物を含有する使用済レジスト用剥離液の再生方法において、前記使用済レジスト用剥離液を蒸留し、得られた留出物にアルカリ化合物を配合してシアン化合物を除去し、レジスト用剥離液を再生することを特徴とする使用済レジスト用剥離液の再生方法。
IPC (3件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  C11D 7/32
FI (3件)：
G03F 7/42 ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/30 572 B
Fターム (15件)：
2H096AA25 ,  2H096BA10 ,  2H096CA14 ,  2H096EA02 ,  2H096EA30 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096LA03 ,  2H096LA25 ,  4H003DA15 ,  4H003DB03 ,  4H003EB14 ,  4H003ED31 ,  5F046MA02 ,  5F046MA19
引用特許：
審査官引用 (8件)
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