特許
J-GLOBAL ID：200903036574231558

面発光レーザ素子および面発光レーザアレイおよび面発光レーザ素子の製造方法および面発光レーザモジュールおよび電子写真システムおよび光通信システムおよび光インターコネクションシステム

発明者：
軸谷 直人

軸谷 直人 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 植本 雅治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-271375
公開番号（公開出願番号）：特開2006-140446
出願日： 2005年09月20日
公開日（公表日）： 2006年06月01日
要約：
【課題】 従来に比べて、高次横モードに対してより大きな損失を選択的に付加することができ、高次横モードの発振をより効果的に抑制できて、単一基本横モードにおいてより一層の高出力動作が可能な面発光レーザ素子を提供する。【解決手段】 一対の分布ブラッグ反射器のうちの少なくとも一方の分布ブラッグ反射器は、活性層105と共振器スペーサー層104,106とから構成される共振領域107とは別の第2の共振領域114を含み、該第2の共振領域114は、電流注入領域の中心から所定の距離の範囲を除く領域に設けられている事を特徴としている。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
活性層と該活性層の両側に設けられた共振器スペーサー層とから構成される共振領域と、低屈折率層と高屈折率層の周期的積層によって構成され、前記共振領域を挟み対向して設けられる一対の分布ブラッグ反射器と、前記活性層への電流注入領域を規定する電流狭窄構造とを有する面発光レーザ素子において、前記一対の分布ブラッグ反射器のうちの少なくとも一方の分布ブラッグ反射器は、前記活性層と前記共振器スペーサー層とから構成される前記共振領域とは別の第2の共振領域を含み、該第2の共振領域は、前記電流注入領域の中心から所定の距離の範囲を除く領域に設けられている事を特徴とする面発光レーザ素子。
IPC (3件)：
H01S 5/183 ,  H01S 5/042 ,  H01S 5/323
FI (3件)：
H01S5/183 ,  H01S5/042 612 ,  H01S5/323
Fターム (23件)：
5F173AC03 ,  5F173AC13 ,  5F173AC22 ,  5F173AC24 ,  5F173AC26 ,  5F173AC35 ,  5F173AC42 ,  5F173AC44 ,  5F173AC46 ,  5F173AC52 ,  5F173AC63 ,  5F173AD05 ,  5F173AG05 ,  5F173AH02 ,  5F173AH03 ,  5F173AH04 ,  5F173AP05 ,  5F173AP32 ,  5F173AP33 ,  5F173AP37 ,  5F173AP54 ,  5F173AP67 ,  5F173AR33
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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