特許
J-GLOBAL ID：200903041365176489

金属膜パターンおよびその製造方法

発明者：
和泉 良弘

和泉 良弘 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 前田 弘 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-009400
公開番号（公開出願番号）：特開2003-213436
出願日： 2002年01月18日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】 表面が平滑な基板上に対しても、簡単なプロセスで、必要な領域だけに、密着性の優れた金属膜パターンを形成する。【解決手段】 基板上に、第1触媒を含有する感光膜を形成する(第1の工程)。この感光膜を所定パターンに形成する(第2の工程)。パターニングされた第1触媒上に、湿式成膜技術による金属酸化膜(ZnO膜など)を選択的に形成する(第3の工程)。金属酸化膜上に、無電解めっきの触媒となる層(第2触媒層)を形成する(第4の工程)。基板を無電解めっき浴に浸漬して、金属酸化膜上に金属膜を析出させる(第5の工程)。
請求項（抜粋）：
表面が平滑な基板上に、第1触媒層と、前記第1触媒層上の全領域または一部の領域に形成された、Ra=10nm以上500nm以下の範囲で凹凸の表面を有する金属酸化膜と、前記金属酸化膜上に形成された無電解めっき金属膜とを有する、金属膜パターン。
IPC (9件)：
C23C 18/18 ,  C23C 18/12 ,  C23C 18/32 ,  C23C 18/38 ,  C23C 18/42 ,  C23C 20/06 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1368 ,  H01L 21/288
FI (9件)：
C23C 18/18 ,  C23C 18/12 ,  C23C 18/32 ,  C23C 18/38 ,  C23C 18/42 ,  C23C 20/06 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1368 ,  H01L 21/288 E
Fターム (38件)：
2H088FA18 ,  2H088HA08 ,  2H088MA20 ,  2H092JA24 ,  2H092KB04 ,  2H092MA11 ,  2H092MA15 ,  2H092MA23 ,  2H092NA27 ,  4K022AA05 ,  4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA31 ,  4K022BA36 ,  4K022CA06 ,  4K022CA07 ,  4K022DA03 ,  4K022DB03 ,  4M104AA10 ,  4M104BB02 ,  4M104BB16 ,  4M104BB17 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104CC05 ,  4M104DD22 ,  4M104DD31 ,  4M104DD51 ,  4M104DD53 ,  4M104DD68 ,  4M104EE03 ,  4M104EE17 ,  4M104FF08 ,  4M104FF13 ,  4M104GG09 ,  4M104HH08
引用特許：
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM