特許
J-GLOBAL ID:200903049621536480

パターン形成方法、画像形成方法、微粒子吸着パターン形成方法、導電性パターン形成方法、パターン形成材料、及び平版印刷版

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-079009
公開番号(公開出願番号):特開2005-037881
出願日: 2004年03月18日
公開日(公表日): 2005年02月10日
要約:
【課題】簡易な方法で、広範囲に応用可能な微細で鮮明なパターンを形成することのできるパターン形成方法を提供する。この方法を応用した画像形成方法や、パターン形成材料、平版印刷版を提供する。【解決手段】支持体上に、側鎖に重合開始能を有する官能基及び架橋性基を有するポリマーを架橋反応により固定化してなる重合開始層を設ける工程と、該重合開始層に、重合性基を有する化合物を接触させ、画像様にエネルギーを付与することにより、グラフト重合を用いて当該重合開始層表面にグラフトポリマーを生成させて、該ポリマーの生成領域と非生成領域とからなるパターンを形成する工程と、を有することを特徴とするパターン形成方法、及び平版印刷版。また、該グラフトポリマーに(導電性を有していても良い)微粒子を吸着させる工程と、を有する微粒子吸着パターン形成方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
支持体上に、側鎖に重合開始能を有する官能基及び架橋性基を有するポリマーを架橋反応により固定化してなる重合開始層を設ける工程と、 該重合開始層に、重合性基を有する化合物を接触させ、画像様にエネルギーを付与することにより、グラフト重合を用いて当該重合開始層表面にグラフトポリマーを生成させて、該グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とからなるパターンを形成する工程と、 を有することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4件):
G03F7/26 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40
FI (4件):
G03F7/26 521 ,  G03F7/00 503 ,  G03F7/004 521 ,  G03F7/40 521
Fターム (27件):
2H025AA00 ,  2H025AB03 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC13 ,  2H025BC31 ,  2H025BC81 ,  2H025BH02 ,  2H025BH03 ,  2H025DA40 ,  2H025FA12 ,  2H025FA19 ,  2H025FA23 ,  2H025FA29 ,  2H096AA06 ,  2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096CA05 ,  2H096EA02 ,  2H096EA27 ,  2H096GA48 ,  2H096HA01 ,  5E343BB25 ,  5E343CC22 ,  5E343GG08
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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