特許
J-GLOBAL ID：200903036803155437 DNA被覆無機基材及びそれを用いた有害物質除去材
出願人/特許権者：
財団法人浜松科学技術研究振興会
財団法人浜松科学技術研究振興会 について
代理人 (1件)： 鷹野 みふね
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-038707
公開番号（公開出願番号）：特開2008-200594
出願日： 2007年02月20日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：
【課題】環境汚染物質などの有害物質を効率よく除去することができ、且つ簡便な方法で製造可能でしかも再生容易な有害物質除去材を提供すること、及びナノテクノロジーの分野で有用であり且つ生体低吸収性の無機微粒子を提供することを課題とする。 【解決手段】 金属又は金属酸化物(例えば光触媒)等の無機基材とDNAとを溶媒中で接触させ、該無機基材表面にDNAが被覆されたDNA被覆無機基材とし、これを有害物質除去材あるいは生体低吸収性無機材料として用いる。 【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
無機基材の表面にDNAが被覆されていることを特徴とする、DNA被覆無機基材。
IPC (4件)： FI (4件)：
Fターム (36件)：
4G047CA02
, 4G047CB08
, 4G047CC03
, 4G047CD03
, 4G066AA23C
, 4G066AC06B
, 4G066BA09
, 4G066BA20
, 4G066CA01
, 4G066FA03
, 4G169AA02
, 4G169AA08
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BA48A
, 4G169CA10
, 4G169CA11
, 4G169DA05
, 4G169EA01Y
, 4G169EB18X
, 4G169EB18Y
, 4G169EC22Y
, 4G169EE01
, 4G169FA01
, 4G169FB14
, 4G169HA01
, 4G169HB01
, 4G169HB02
, 4G169HC27
, 4K018BA01
, 4K018BA02
, 4K018BA03
, 4K018BA10
, 4K018BA14
, 4K018BC29
, 4K018BD10
引用特許： 出願人引用 (5件)
- 有害物質の処理材、有害物質の処理方法およびその装置
公報種別：再公表公報 出願番号：JP2001008705 出願人：株式会社ノリタケカンパニーリミテド, 山口晃史 - 修飾触媒及びそれを用いた反応器並びに防汚樹脂組成物
公報種別：公開公報 出願番号：特願2002-075218 出願人：富士写真フイルム株式会社 - 有害物質の除去方法及び有害物質除去フィルター
公報種別：再公表公報 出願番号：JP2003004817 出願人：日生バイオ株式会社
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