特許
J-GLOBAL ID：200903036892036586
加熱装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-232318
公開番号（公開出願番号）：特開2004-072000
出願日： 2002年08月09日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】フォトリソ工程のレジストベーキングなどで、大口径ウエハを均一に加熱し、パターン寸法ばらつきを小さくできる加熱装置を提供する。【解決手段】8インチ以上の大口径のウエハ2を効率的に加熱するために設けられ、ホットプレート52、54を一定温度に保つように独立に温度制御する複数のヒーター8a〜8dと、ホットプレート52、54で加熱される位置にウエハ2を支持するウエハ支持部材6a、6bと、ウエハ支持部材6a、6bにより支持されたウエハ2を回転させるウエハ回転機構5と備え、ウエハ2を回転させながら加熱処理することによりウエハ面内を均一に加熱できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を加熱するホットプレートと、前記ホットプレートに近接して前記基板を支持し回転させる支持回転機構部と、前記ホットプレート内に配列されそれぞれ独立に前記ホットプレートを同一の所定の温度に加熱する複数のヒータとを備えた加熱装置。
IPC (3件)：
H01L21/027
, H05B3/00
, H05B3/68
H01L21/30 567
, H05B3/00 310E
, H05B3/00 370
, H05B3/68
3K058AA86
, 3K058BA19
, 3K058CA12
, 3K058CA23
, 3K058CA69
, 3K058CE31
, 3K092PP09
, 3K092QA05
, 3K092RF03
, 3K092UA05
, 3K092VV22
, 5F046KA04
, 5F046KA10
