特許
J-GLOBAL ID：200903037079512563
純水製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-300785
公開番号（公開出願番号）：特開平11-128924
出願日： 1997年10月31日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：
【要約】【課題】半導体製造などの電子産業分野、医薬用水関連分野などで用いられる、ホウ素濃度を大幅に低減し、かつ比抵抗を高めた純水又は超純水の製造に適した純水製造装置を提供する。【解決手段】(A)ホウ素含有水にアルカリを添加してpHを9.2以上に調整するアルカリ添加装置、(B)pHの調整されたホウ素含有水が通水される耐アルカリ性逆浸透膜及び(C)耐アルカリ性逆浸透膜透過水が通水される混床型イオン交換装置を有することを特徴とする純水製造装置。
請求項（抜粋）：
(A)ホウ素含有水にアルカリを添加してpHを9.2以上に調整するアルカリ添加装置、(B)pHの調整されたホウ素含有水が通水される耐アルカリ性逆浸透膜及び(C)耐アルカリ性逆浸透膜透過水が通水される混床型イオン交換装置を有することを特徴とする純水製造装置。
IPC (4件)：
C02F 1/44
, B01D 61/04
, B01D 61/08
, C02F 1/58
C02F 1/44 J
, B01D 61/04
, B01D 61/08
, C02F 1/58 H
