特許
J-GLOBAL ID:200903037654321597

半導体ウエハの保管ボックス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 稲垣 清
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-185943
公開番号(公開出願番号):特開2003-007813
出願日: 2001年06月20日
公開日(公表日): 2003年01月10日
要約:
【要約】【課題】 保管ボックス内で発生する有機ガスによって半導体ウエハが汚染されない、半導体ウエハの保管ボックスを提供する。【解決手段】 半導体ウエハの保管ボックス10は、ポリカーボネート樹脂で形成され、半導体ウエハ14を水平状態で収容し、前面に扉11を有する。保管ボックス10の上部には、清浄空気又は清浄ガスを供給する配管に接続するための配管継手とフィルタとを有するエア供給口12が形成される。保管ボックス10の底部には、フィルタを有する排気口13が形成される。上方から下方に向かう空気流を強制的に形成することにより、水平に収容される半導体ウエハ14の表面に付着する塵埃及び有機ガスを減らす。
請求項(抜粋):
複数枚の半導体ウエハを相互に間隙を隔てて収容する半導体ウエハの保管ボックスにおいて、配管継手及びフィルタを有し外部からエアが強制的に供給されるエア供給口と、フィルタを有し内部のエアを排気する排気口とを備えることを特徴とする半導体ウエハの保管ボックス。
IPC (4件):
H01L 21/68 ,  B65G 1/00 521 ,  B65G 1/00 537 ,  B65G 49/07
FI (5件):
H01L 21/68 T ,  H01L 21/68 A ,  B65G 1/00 521 D ,  B65G 1/00 537 Z ,  B65G 49/07 L
Fターム (19件):
3F022AA08 ,  3F022BB09 ,  3F022CC02 ,  3F022EE05 ,  5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031EA14 ,  5F031EA20 ,  5F031GA43 ,  5F031GA49 ,  5F031GA58 ,  5F031NA02 ,  5F031NA04 ,  5F031NA10 ,  5F031NA14 ,  5F031NA16 ,  5F031NA20 ,  5F031PA26
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 基板の搬送システム及び基板の搬送方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-347970   出願人:東京エレクトロン株式会社
  • 被処理体の緩衝装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-300258   出願人:テル・バリアン株式会社
  • ケース
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-234437   出願人:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
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