特許
J-GLOBAL ID：200903038805876851
液晶素子及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-025644
公開番号（公開出願番号）：特開平11-223813
出願日： 1998年02月06日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 低しきい値化、透過率の温度依存性低減及び履歴現象の低減が可能な液晶素子とその製造方法を提供する。【解決手段】 液晶配向膜を有する基板が液晶配向膜の側で所定の間隙を置いて互いに対向し、この間隙内に液晶が配されている液晶表示素子において、液晶配向膜としてのSiOX 斜方蒸着膜(但し、xは2未満の正数)上に、この斜方蒸着膜の斜方柱20による凹凸21を保持する0.1μm以下の厚さで(塗布時の水溶液濃度を1重量%以下として)、ポリビニルアルコール系薄膜22を積層することによって、斜方柱による表面凹凸をなくすことなしにポリビニルアルコール系薄膜を積層して、SiOX 斜方蒸着配向膜のSiOX 柱の形状による液晶配向性を十二分に発揮し、かつ、ポリビニルアルコールの液晶材料との適合性(アンカリング力の低下と、液晶-SiOX 間の分極及び相互作用の抑制)が得られ、2種類の配向膜のそれぞれの特長を生かすことができる。
請求項（抜粋）：
液晶配向膜を有する基体の複数個が前記液晶配向膜の側で所定の間隙を置いて互いに対向し、前記間隙内に液晶が配されている液晶素子において、前記液晶配向膜が、SiOX 斜方蒸着膜(但し、xは2未満の正数)と、この斜方蒸着膜の斜方柱による凹凸を保持する0.1μm以下の厚さで、前記斜方蒸着膜上に積層されたポリビニルアルコール系及び/又はナイロン系薄膜との積層体によって形成されていることを特徴とする液晶素子。
引用特許：
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