特許
J-GLOBAL ID：200903038854526866

ベベルエッチング装置およびベベルエッチング方法

発明者：
倉田 康弘

倉田 康弘 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 川崎 実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-294831
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110626
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：
【要約】【課題】基板の表面と遮断板の下面との距離を0.5mm以下にする。【解決手段】このベベルエッチング装置は、ウエハWをほぼ水平に保持して回転させるためのスピンチャック1と、処理時にスピンチャック1に保持されてウエハWとともに回転される円板状の遮断板2とを備えている。遮断板2は、シリコンを含む材料を用いて、ウエハWとほぼ同じ厚みを有する円板状に形成されている。遮断板2の中心部には、たとえば、直径5mm程度の円形状の開口21が貫通して形成されている。処理時には、スピンチャック1に保持されたウエハWおよび遮断板2が高速回転されるとともに、この回転しているウエハWの裏面に向けて、チャック軸11の上端に配置されたノズル16からエッチング液が吐出される。また、吸着部材34の内側の空間からN2がブローされ、このN2が遮断板2の開口21からウエハWの表面に供給される。
請求項（抜粋）：
基板上面に気体を供給すると同時に基板下面にエッチング液を供給することにより、基板上面の周縁部および下面に対して選択的にエッチング処理を施すためのベベルエッチング装置であって、基板をほぼ水平に保持しつつ回転させる基板保持回転手段と、この基板保持回転手段により回転される基板の下面に向けてエッチング液を供給するエッチング液供給手段と、基板の上面に対して所定間隔の隙間を空けて対向するように上記基板保持回転手段上に載置されて、上記基板保持回転手段により基板とともに回転され、基板の下面から上面への上記エッチング液の回り込みを制御するための気体を当該基板の上面に供給するための開口部がほぼ中央に形成された遮断板とを含むことを特徴とするベベルエッチング装置。
IPC (4件)：
H01L 21/306 ,  B05D 1/40 ,  B05D 7/00 ,  B05C 11/08
FI (4件)：
B05D 1/40 A ,  B05D 7/00 H ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/306 R
Fターム (11件)：
4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4F042AA07 ,  4F042EB24 ,  4F042EB28 ,  5F043AA02 ,  5F043BB02 ,  5F043EE08 ,  5F043GG10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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