縦型熱処理装置及び熱処理方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-339749
公開番号（公開出願番号）：特開2001-156005
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：

【要約】【課題】半導体ウエハを保持具に棚状に保持して反応容器内に下方側から搬入して熱処理を行う装置において、処理雰囲気の温度安定時間を短くし、また温度の均一性の高い処理雰囲気を広くとれるようにする。【解決手段】反応容器の下端を塞ぐ蓋体と保持具との間に保温ユニットを設け、この保温ユニットの例えば上面部に、例えば高純度の炭素素材よりなる抵抗発熱線を石英プレートの中に封入してなる発熱体ユニットを設け、この発熱体ユニットの下方側に例えば石英ブロックを設ける。保温ユニットを蓋体に固定する一方、保温ユニットの中央部に保持具を回転させる回転軸を貫通させ、発熱体ユニットに給電するための給電路部材の外部への引き出しを容易にする。

請求項（抜粋）：

蓋体の上に支持された保持具に多数の被処理体を棚状に保持させ、前記保持具を反応容器内に下方側から搬入すると共に前記蓋体により反応容器の下端を気密に塞ぎ、前記反応容器内を加熱雰囲気にして被処理体に対して熱処理を行う縦型熱処理装置において、前記蓋体と保持具との間に保温ユニットが設けられ、この保温ユニットは、金属不純物が少ない抵抗発熱体をセラミックの中に封入してなる発熱体ユニットを備えていることを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 , C23C 16/455 , H01L 21/22 511

FI (3件)：

H01L 21/205 , C23C 16/455 , H01L 21/22 511 Q

Fターム (23件)：

4K030AA03 , 4K030AA06 , 4K030AA24 , 4K030BA44 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030GA02 , 4K030GA06 , 4K030KA04 , 4K030KA22 , 4K030KA25 , 4K030KA46 , 5F045AA03 , 5F045AA20 , 5F045AC05 , 5F045AD10 , 5F045AD12 , 5F045BB02 , 5F045BB08 , 5F045DP19 , 5F045DQ05 , 5F045EK07 , 5F045EM02

引用特許：

審査官引用 (10件)

熱処理装置及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-325008 出願人：東京エレクトロン株式会社
縦型高速熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-248297 出願人：東横化学株式会社
特開平1-236615

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