特許
J-GLOBAL ID:200903039512594270
レーザビーム露光装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-064712
公開番号(公開出願番号):特開2001-255595
出願日: 2000年03月09日
公開日(公表日): 2001年09月21日
要約:
【要約】【課題】 光学調整が簡単でありかつ光量の損失を抑え、干渉ムラによる濃度変動のないレーザビーム露光装置を提供する。【解決手段】 このレーザビーム露光装置は、使用する波長に対して透過性または半透過性である支持体層または感光層を少なくとも1つ有する感光材料Fに対しレーザ光源125,127からレーザビームを照射し露光する。1本の走査線または連続した複数本の走査線からなるビーム照射域を1つの線状領域とし、または、1画素または連続した複数の画素からなるビーム照射域を1つの画素域とし、隣接する線状領域間または隣接する画素域間で、照射ビームの光量-波長特性が異なるレーザビームを照射する。
請求項(抜粋):
使用する波長に対して透過性または半透過性である支持体層または感光層を少なくとも1つ有する感光材料に対しレーザ光源からレーザビームを照射し露光するレーザビーム露光装置であって、前記レーザビームにより照射される1本の走査線または連続した複数本の走査線からなるビーム照射域を1つの線状領域と定義し、隣接する前記線状領域間では、光量-波長特性が異なるレーザビームで前記感光材料を照射することを特徴とするレーザビーム露光装置。
IPC (3件):
G03B 27/32
, G03D 13/00
, H01S 3/00
FI (3件):
G03B 27/32 Z
, G03D 13/00 H
, H01S 3/00 B
Fターム (8件):
2H106AA72
, 2H106BA91
, 2H112AA03
, 2H112BC32
, 5F072AB13
, 5F072RR01
, 5F072TT27
, 5F072YY20
引用特許:
出願人引用 (12件)
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半導体レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-191855
出願人:富士写真フイルム株式会社
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特開昭63-293990
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特開昭63-290456
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特開昭60-014567
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特開昭60-014260
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-206613
出願人:富士写真フイルム株式会社
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-206612
出願人:富士写真フイルム株式会社
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レーザ露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-328222
出願人:富士写真フイルム株式会社
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半導体光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-257245
出願人:日本電気株式会社
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半導体レーザ励起固体レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-102951
出願人:三井石油化学工業株式会社
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光走査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-070006
出願人:キヤノン株式会社
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走査光学装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-304192
出願人:キヤノン株式会社
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審査官引用 (2件)
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-206612
出願人:富士写真フイルム株式会社
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-206613
出願人:富士写真フイルム株式会社
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