特許
J-GLOBAL ID：200903039986919197
パルスレーザによる微小構造の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-370268
公開番号（公開出願番号）：特開2006-176355
出願日： 2004年12月21日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：
【課題】 パルスレーザによる微小構造の加工において、微小構造に生じたテーパーの発生を抑えて、深さ方向についてよりストレートな微小構造を形成すること。【解決手段】 シリカガラス1にパルスレーザ3の集光照射を行ってパルスレーザ3の焦点3c近傍の該シリカガラス1を改質させ、該パルスレーザ3または該シリカガラス1を走査させながら改質させて該シリカガラス1の表面を1ヶ所以上含んだレーザ改質領域4を形成し、該レーザ改質領域4をエッチングにより除去して該被加工物に微小構造を形成する方法において、該エッチングの工程で水酸化カリウム水溶液をエッチャントとして用いることを特徴とするシリカガラスへの微小構造の形成方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
シリカガラスにパルスレーザの集光照射を行ってパルスレーザの焦点近傍の該シリカガラスを改質させ、
該パルスレーザまたは該シリカガラスを走査させながら改質させて該シリカガラスの表面を1ヶ所以上含んだレーザ改質領域を形成し、
該レーザ改質領域をエッチングにより除去して該被加工物に微小構造を形成する方法において、
該エッチングの工程で水酸化カリウム水溶液をエッチャントとして用いることを特徴とするシリカガラスへの微小構造の形成方法。
IPC (4件)：
C03C 23/00
, B23K 26/00
, B23K 26/40
, C03C 15/00
C03C23/00 D
, B23K26/00 D
, B23K26/40
, C03C15/00 B
4E068AA01
, 4E068AD00
, 4E068CA03
, 4E068DB13
, 4G059AA01
, 4G059AA08
, 4G059AA20
, 4G059AB01
, 4G059AB05
, 4G059AB07
, 4G059AB09
, 4G059AB11
, 4G059AC01
, 4G059AC30
, 4G059BB12
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (1件)
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