リソグラフィ装置およびキャリブレーション方法

発明者： , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-021061
公開番号（公開出願番号）：特開2009-188405
出願日： 2009年02月02日
公開日（公表日）： 2009年08月20日
要約：

【課題】ステージ位置測定の較正精度を高める。【解決手段】ステージシステムのキャリブレーション方法は、セットポイント信号に応答してエンコーダグリッドに対してステージを移動させること、エンコーダグリッドと協働するセンサヘッドによってステージの位置を測定することを含む。ステージの位置はステージコントローラによって制御される。センサヘッドによって測定されたステージの位置とセットポイント信号の差を表す信号が登録される。この差を表す登録された信号に基づいてステージシステムが較正される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

ステージシステムのキャリブレーション方法であって、 a)セットポイント信号に応答して、ステージをエンコーダグリッドに対して移動させることであって、前記ステージの位置がステージコントローラによって制御される、該移動させること、 b)前記移動中に、前記エンコーダグリッドと協働するセンサヘッドによって前記ステージの前記位置を測定すること、 c)前記センサヘッドによって測定された前記ステージの前記位置と前記セットポイント信号の差を表す信号を登録すること、および d)前記差を表す前記登録された信号に基づいて前記ステージシステムを較正すること、を含むステージシステムのキャリブレーション方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , H01L 21/68

FI (3件)：

H01L21/30 516B , G03F7/20 521 , H01L21/68 K

Fターム (15件)：

5F031HA57 , 5F031JA06 , 5F031JA22 , 5F031JA37 , 5F031MA27 , 5F046BA03 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC04 , 5F046CC13 , 5F046CC16 , 5F046CC20 , 5F046DB04 , 5F046DC05 , 5F046DC12

引用特許：

出願人引用 (7件)

半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-159753 出願人：キヤノン株式会社
リトグラフィー投影装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-251788 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
駆動制御装置及び方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-099730 出願人：キヤノン株式会社

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審査官引用 (7件)

リトグラフィー投影装置の較正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-347587 出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-159753 出願人：キヤノン株式会社
リトグラフィー投影装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-251788 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

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