特許
J-GLOBAL ID：200903047314326883

リトグラフィー投影装置の較正方法

発明者：
イイム ブン パトリック クワン

イイム ブン パトリック クワン について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-347587
公開番号（公開出願番号）：特開2007-180553
出願日： 2006年12月25日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：
【課題】動的精度および機械間の整合に優れた位置決めステージを備えたリトグラフィー投影装置の提供。【解決手段】マスクステージのX、YおよびRx位置が、マスクステージに装着された各グリッド格子の変位を測定する2つの光学式エンコダー読取りヘッド10,11を使用して測定され、グリッド格子12,13は、マスクMA自体上のパターンと同一平面となるようにマスクテーブルMTの切取り部に設けるのが好ましい。他の自由度におけるテーブル位置の測定は、容量性または光学式高さセンサHSで測定することができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
放射線投影ビームを与える放射装置と、 所望のパターンにしたがって投影ビームにパターンを付与する作用を果たすパターン付与手段を支える支持構造体と、 基板を保持する基板テーブルと、 基板のターゲット部にパターン付与されたビームを投影する投影装置とを含むリトグラフィー投影装置において、 前記支持構造体と前記基板テーブルの一方を含む可動対象物の位置を少なくとも自由度2で測定する変位測定装置を有し、 前記変位測定装置は、前記可動対象物に装着された少なくとも1つのグリッド格子と、自由度2で前記グリッド格子の変位を測定する少なくとも1つのセンサヘッドとを含むことを特徴とするリトグラフィー投影装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/68
FI (4件)：
H01L21/30 515F ,  H01L21/30 515G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 F
Fターム (26件)：
5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031HA53 ,  5F031JA01 ,  5F031JA02 ,  5F031JA14 ,  5F031JA17 ,  5F031JA22 ,  5F031JA32 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031MA27 ,  5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC04 ,  5F046DA06 ,  5F046DA07 ,  5F046DB01 ,  5F046DB05 ,  5F046DC05 ,  5F046DC09 ,  5F046DC12 ,  5F046EB02 ,  5F046EB03
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (16件)
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