特許
J-GLOBAL ID：200903040768429402
走査プローブ顕微鏡及びCD・断面プロファイル計測方法並びに半導体デバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-022086
公開番号（公開出願番号）：特開2004-264039
出願日： 2003年01月30日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：
【課題】光学顕微鏡では観察が困難であるような微細パターンを有する試料の計測領域を正確に特定し、位置合わせすることができ、探針形状および探針磨耗の状態に基づいて、探針形状のばらつき、もしくは探針磨耗に起因する計測プロファイル歪みの補正を行うことのできる走査プローブ顕微鏡を提供する。【解決手段】試料102表面の画像に基づいて、試料102の計測領域を特定する計測領域特定部122と、形状が既知の標準試料114と、標準試料114の測定結果に基づいて、探針103の状態を検出する探針状態検出部121と、探針状態検出部121により検出された探針103の状態に基づいて、試料102表面の計測結果を補正する計測形状補正部108とを備えた。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
探針を試料表面に近接、又は接触させて走査し、前記探針と前記試料間に生じる物理的な相互作用を計測することにより、前記試料の表面形状を計測する走査プローブ顕微鏡において、
前記試料表面の画像に基づいて、前記試料の計測領域を特定する計測領域特定手段と、
前記探針の状態に基づいて、前記試料表面の計測結果を補正する計測形状補正手段とを備えたことを特徴とする走査プローブ顕微鏡。
IPC (6件)：
G01B21/30
, G01N13/10
, G01N13/14
, G01N13/16
, G12B21/08
, H01L21/66
G01B21/30
, G01N13/10 F
, G01N13/14 A
, G01N13/16 A
, H01L21/66 J
, G12B1/00 601D
2F069AA31
, 2F069AA60
, 2F069AA63
, 2F069BB15
, 2F069DD12
, 2F069DD15
, 2F069DD19
, 2F069DD25
, 2F069EE14
, 2F069FF07
, 2F069GG04
, 2F069GG07
, 2F069HH04
, 2F069LL03
, 2F069MM24
, 2F069MM32
, 2F069MM38
, 4M106AA01
, 4M106CA38
, 4M106DB01
