特許
J-GLOBAL ID:200903040846452866

ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高山 宏志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-208760
公開番号(公開出願番号):特開2007-027490
出願日: 2005年07月19日
公開日(公表日): 2007年02月01日
要約:
【課題】 シャワーヘッド等のガス吐出機構の温度上昇を効果的に抑止し、ガス吐出機構の温度上昇に起因する処理の不良や不均一を低減すること。【解決手段】 成膜装置100は、ウエハを収容するチャンバー1と、チャンバー1内に配置され、ウエハが載置される載置台と、載置台上と対向する位置に設けられ、チャンバー1内へ処理ガスを吐出するシャワーヘッド4と、チャンバー1内を排気する排気機構とを具備し、シャワーヘッド4は、処理ガスを吐出するための多数のガス吐出孔45a、45bが形成された中央部46と、中央部46の外周側に位置する、ガス吐出孔45a、45bの存在しない外周部47とを有し、成膜装置100は、シャワーヘッド4の熱を外周部47の全周から大気側に放熱する放熱機構をさらに具備する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
被処理基板を収容する処理容器と、 前記処理容器内に配置され、被処理基板が載置される載置台と、 前記載置台上と対向する位置に設けられ、前記処理容器内へ処理ガスを吐出するガス吐出機構と、 前記処理容器内を排気する排気機構と を具備するガス処理装置であって、 前記ガス吐出機構は、 前記処理ガスを吐出するための多数のガス吐出孔が形成された中央部と、 前記中央部の外周側に位置する、前記ガス吐出孔の存在しない外周部と を有し、 前記ガス吐出機構の熱を前記外周部の略全周から大気側に放熱する放熱機構をさらに具備することを特徴とするガス処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/31 ,  C23C 16/455
FI (2件):
H01L21/31 B ,  C23C16/455
Fターム (25件):
4K030AA06 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA10 ,  4K030BA29 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030KA45 ,  4K030LA02 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045BB01 ,  5F045EE03 ,  5F045EE11 ,  5F045EF01 ,  5F045EF05 ,  5F045EF11 ,  5F045EJ01
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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