プラズマ処理装置およびそのクリーニング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木村満
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-394282
公開番号（公開出願番号）：特開2003-197615
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2003年07月11日
要約：

【要約】【課題】効率的なクリーニングの可能なプラズマ処理装置およびそのクリーニング方法を提供する。【解決手段】シャワーヘッドとして機能する上部電極26の内部に形成されたプロセスガスを拡散させるための拡散部29aに直接接続する排気管37を設ける。排気管37を一端とするクリーニング用排気ラインL4は、排気口36に接続され、チャンバ11内を排気するための排気ラインL3に接続される。クリーニングガスラインL2から供給されたクリーニングガスは、チャンバ11内から上部電極26の内部を通って排気される。

請求項（抜粋）：

チャンバと、所定のプロセスガスを前記チャンバ内に供給するプロセスガスラインと、前記プロセスガスラインに接続されて前記プロセスガスラインから導入される前記プロセスガスを拡散させる拡散路と、前記拡散路に接続されて前記拡散路により拡散された前記プロセスガスを前記チャンバ内に供給する複数のガス孔と、を備え、高周波電力を印加可能な拡散電極と、前記チャンバの内部をクリーニングするためのクリーニングガスを前記チャンバ内に供給するためのクリーニングガスラインと、一端が前記プロセスガスラインと前記拡散路との少なくとも一方に接続され、他端が排気手段に接続され、前記チャンバ内から前記クリーニングガスを排気するためのクリーニングガス排気ラインと、を備える、ことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 , C23C 16/44 , H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/31 C , C23C 16/44 J , H01L 21/302 N

Fターム (28件)：

4K030DA06 , 4K030KA10 , 4K030KA11 , 4K030KA12 , 4K030KA14 , 5F004AA15 , 5F004BA03 , 5F004BB28 , 5F004BC03 , 5F004BD04 , 5F004CA01 , 5F004DA01 , 5F004DA02 , 5F004DA04 , 5F004DA11 , 5F004DA17 , 5F004DA18 , 5F045AA08 , 5F045AB32 , 5F045EB06 , 5F045EE06 , 5F045EE13 , 5F045EE20 , 5F045EF20 , 5F045EG01 , 5F045EG02 , 5F045EG05 , 5F045EH13

引用特許：

審査官引用 (6件)

反応室のクリーニング方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-191942 出願人：株式会社日立国際電気
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-257220 出願人：キヤノン株式会社
特開昭62-214180

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