特許
J-GLOBAL ID：200903041002358267
リトグラフ装置、および、デバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-294568
公開番号（公開出願番号）：特開2005-117048
出願日： 2004年10月07日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【課題】パターン付与手段に含まれる反射器組立体が入射放射線を吸収して生じる熱による反射面への熱変形影響を抑制する。【解決手段】本発明リトグラフ装置は、基板を保持する基板テーブルと、放射投影ビームを形成する放射系と、所望のパターンに応じて投影ビームをパターン化するように働くパターン付与手段と、基板の目標部分にパターン化されたビームを投影する投影系とを含む。この投影系および/または放射系は、入射放射線の少なくとも一部を反射する反射面111を備えた反射器基材112を有する反射器組立体100と、反射器基材112の少なくとも一部から熱を伝達することのできる熱システム120とを含む。熱システム120は、反射面に対して反射器基材112の反対側で、反射器基材112の凹所113内にある少なくとも一つの熱部材121を含む。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
放射投影ビームを供給する照射系と、
前記放射投影ビームにその横断面のパターンを与えるように働くパターン付与手段を支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターン付与された前記放射投影ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを含むリトグラフ装置であって、
前記パターン付与手段、前記投影系および前記照射系の少なくとも一つが、
入射放射線の少なくとも一部を反射する反射面(111)を有する反射器基材(112)を含む反射器組立体(100)を含むリトグラフ装置において、
前記反射器組立体が、前記反射器基材(112)の少なくとも一部から熱を伝達することのできる熱システム(120)を更に含み、この熱システム(120)は少なくとも一つの熱部材を含み、この熱部材は反射器基材の反射面とは異なる側に形成された少なくとも一つの凹所(113)内に存在することを特徴とするリトグラフ装置。
IPC (7件)：
H01L21/027
, G02B7/182
, G02B7/198
, G03F7/20
, G21K1/06
, G21K5/00
, G21K5/02
H01L21/30 531A
, G03F7/20 503
, G21K1/06 P
, G21K5/00 Z
, G21K5/02 X
, H01L21/30 517
, H01L21/30 515D
, G02B7/18 B
, G02B7/18 Z
2H043BC01
, 2H043CB00
, 2H043CE00
, 2H097AA02
, 2H097CA15
, 2H097LA10
, 5F046BA05
, 5F046CB02
, 5F046DA26
, 5F046GA03
, 5F046GB01
