ミラー装置、ミラーの調整方法、露光装置、露光方法及び半導体デバイスの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-078917
公開番号（公開出願番号）：特開2003-282398
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年10月03日
要約：

【要約】【課題】露光光の吸収による発熱によるミラーの変形を抑え、安定した露光を行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】実際の露光と同じ条件下で、ミラー形状を一定に保つために必要な温度制御データを測定し、実際の露光において、そのデータを用いた温度制御を行い、露光光の照射により加熱されたミラーを冷却し、形状変化の発生を抑制させる構成とした。

請求項（抜粋）：

レチクルパターンをウエハに転写する露光装置用のミラー装置で、入射光の入射条件に基づいて反射面形状を制御する機能を有するミラー装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G02B 5/08

FI (5件)：

G02B 5/08 , H01L 21/30 531 A , H01L 21/30 516 E , H01L 21/30 517 , H01L 21/30 502 G

Fターム (12件)：

2H042DA08 , 2H042DA20 , 2H042DB02 , 2H042DB06 , 2H042DB13 , 2H042DD04 , 2H042DD05 , 2H042DE00 , 5F046AA28 , 5F046GA14 , 5F046GB01 , 5F046GB09

引用特許：

審査官引用 (9件)

反射光学素子および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-185696 出願人：株式会社ニコン
露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-094315 出願人：株式会社ニコン
投影露光方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-094067 出願人：株式会社日立製作所

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