X線反射鏡、X線露光転写装置及び半導体デバイスの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細江利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-018205
公開番号（公開出願番号）：特開2003-218023
出願日： 2002年01月28日
公開日（公表日）： 2003年07月31日
要約：

【要約】【課題】 X線反射鏡に応力をかけて変形させることが少なく、しかもX線反射鏡を効率的に冷却することができる冷却構造を有するX線反射鏡を提供する。【解決手段】 X線反射鏡は、X線反射領域1aと、X線反射領域外1bとを持つX線反射鏡基板1と、X線反射鏡基板1に施されているX線反射膜2と、伝熱経路となる物体3から構成されている。伝熱経路となる物体3は、X線反射鏡基盤1のX線反射領域1aを遮らないよう、X線反射領域外1bに接合されており、この伝熱経路となる物体3のX線反射鏡との接合部でない端部が、冷却機構4に接合されるようになっている。

請求項（抜粋）：

X線光学系を形成するためのX線反射鏡であって、X線反射領域外に剛性の小さな伝熱体を接合し、伝熱経路としたことを特徴とするX線反射鏡。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , G02B 5/08 , G02B 7/182 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G21K 1/06

FI (7件)：

G02B 5/08 A , G02B 5/08 F , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G21K 1/06 P , H01L 21/30 531 A , G02B 7/18 Z

Fターム (16件)：

2H042DA01 , 2H042DA12 , 2H042DB13 , 2H042DE00 , 2H043CB03 , 2H043CE00 , 2H097AA02 , 2H097AA03 , 2H097BA10 , 2H097CA15 , 2H097EA01 , 2H097GB01 , 2H097LA10 , 5F046GA14 , 5F046GB01 , 5F046GD10

引用特許：

審査官引用 (5件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-324802 出願人：株式会社ニコン
受動熱補償を伴う光学構造及びマイクロリソグラフィの投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-035932 出願人：カール・ツアイス・スティフツング
反射型マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-021863 出願人：株式会社ニコン

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