特許
J-GLOBAL ID:200903041046978025

熱処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-003130
公開番号(公開出願番号):特開2009-164525
出願日: 2008年01月10日
公開日(公表日): 2009年07月23日
要約:
【課題】ハロゲンランプの影響によるフラッシュランプの劣化を抑制することができる技術を提供することを目的とする。【解決手段】保持部2に保持された基板Wに向けて、ハロゲンランプ31から光を照射して予備加熱処理を行い、フラッシュランプ41から閃光を照射してフラッシュ加熱処理を行う。ハロゲンランプ31から出射されてフラッシュランプ41へと向かう光の一部L1は、周縁光遮光部材6に形成された窓孔61を通過して、保持部2に保持された基板Wへ入射し、そのエネルギーが基板Wの予備加熱に使われる。一方、それ以外の光L2は周縁光遮光部材6によって遮光される。したがって、ハロゲンランプ31から出射された光が直接にフラッシュランプ41に入射することはなく、フラッシュランプ41の管壁の昇温を抑制することができる。ひいては、フラッシュランプ41の劣化を抑えることができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板に対して光を照射することによって当該基板を加熱する熱処理装置であって、 基板を保持する保持手段と、 前記保持手段に保持された基板と所定の距離だけ離間した位置から前記基板に向けて光を照射する複数のハロゲンランプを備える第1の光照射手段と、 前記保持手段に保持された基板と所定の距離だけ離間した位置から前記基板に向けて閃光を照射する複数のフラッシュランプを備える第2の光照射手段と、 前記第1の光照射手段と前記保持手段との間に挿入され、前記第1の光照射手段から出射され、前記第2の光照射手段へと向かう光の一部を通過させて前記保持手段に保持された基板に入射させつつ、それ以外の光を遮光する周縁光遮光手段と、 を備えることを特徴とする熱処理装置。
IPC (1件):
H01L 21/26
FI (1件):
H01L21/26 J
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 熱処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-088371   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (8件)
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