特許
J-GLOBAL ID：200903041110528306

ハイドレート生成装置

発明者：
中村 喜久男

中村 喜久男 について


出願人/特許権者：
三井造船株式会社

三井造船株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-302098
公開番号（公開出願番号）：特開2006-111774
出願日： 2004年10月15日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：
【課題】 粒径が大きなハイドレートを生成する。【解決手段】 ハイドレート生成装置10では、スプレー塔12内の未反応の天然ガスNGをガス循環ライン42で冷却して循環させる。また、ガス供給ライン36を分岐させて、天然ガスNGをスプレー塔12の底部から上部にかけて分割して送り込む。また、スプレー塔12内で天然ガスNGが底部から上部にかけて流れる気流を形成し、さらに、スプレー塔12のハイドレート生成領域Aの全高を10m以上とすることで、水Wの滞留時間を長くする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
上下に延出するタンクの上部から水を噴霧し前記タンク内のハイドレート形成ガスと所定温度下、所定圧力下で反応させてハイドレートを生成するハイドレート生成装置であって、 前記タンク内のハイドレート形成ガスを冷却して循環させるガス循環ラインを有することを特徴とするハイドレート生成装置。
IPC (1件)：
C10L 3/06
FI (1件)：
C10L3/00 A
Fターム (5件)：
4H006AA04 ,  4H006AA05 ,  4H006AD40 ,  4H006BB31 ,  4H006BE60
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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