特許
J-GLOBAL ID：200903041477752520

ArFレーザ光を用いるパターン形成方法

発明者：
李 聖 權

李 聖 權 について

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金 相 ▲イク▼

金 相 ▲イク▼ について

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徐 源 駿

徐 源 駿 について


出願人/特許権者：
株式会社ハイニックスセミコンダクター

株式会社ハイニックスセミコンダクター について


代理人 (1件)： 三枝 英二 (外10名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-349673
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297813
出願日： 2002年12月02日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：
【要約】【課題】 感光膜に形成されるパターンの変形や形状不良を抑制できるArFレーザ光を用いるパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 基板10上に形成された被エッチング層14上に有機質材料からなる反射防止層15を形成するステップと、反射防止層15上にArFレーザ光用の感光膜を形成するステップと、ArFレーザ光を用いて感光膜を露光するステップと、感光膜を現像することにより感光膜パターン16を形成するステップと、感光膜パターン16をマスクとして、O2プラズマを利用して反射防止層15を選択的にエッチンし、被エッチング層14の表面を露出させるとともに、感光膜パターン16の表面に、エッチングにより発生したポリマーを付着させることによりポリマー層17を形成するステップと、ポリマー層17が形成された感光膜パターン16をマスクとして、被エッチング層14を選択的にエッチングするステップとを含む。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された被エッチング層上に有機質材料からなる反射防止層を形成するステップと、前記反射防止層上にArFレーザ光用の感光膜を形成するステップと、ArFレーザ光を用いて前記感光膜を露光するステップと、前記感光膜を現像することにより感光膜パターンを形成するステップと、前記感光膜パターンをマスクとして、O2プラズマを利用して前記反射防止層を選択的にエッチングし、前記被エッチング層の表面を露出させるとともに、前記感光膜パターンの表面に、前記エッチングにより発生したポリマーを付着させることによりポリマー層を形成するステップと、前記ポリマー層が形成された感光膜パターンをマスクとして、前記被エッチング層を選択的にエッチングするステップとを含むことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/11 503 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/302 105 A ,  H01L 21/30 574 ,  H01L 21/302 301 S
Fターム (33件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025DA34 ,  2H025FA39 ,  2H025FA41 ,  2H096AA25 ,  2H096EA04 ,  2H096EA23 ,  2H096GA08 ,  2H096HA07 ,  2H096HA23 ,  2H096HA24 ,  2H096LA30 ,  5F004BA04 ,  5F004BA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB25 ,  5F004BD03 ,  5F004CA02 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA15 ,  5F004DA16 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB23 ,  5F004EA04 ,  5F004EA22 ,  5F046CA04 ,  5F046PA07
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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