特許
J-GLOBAL ID：200903041515872446
ケイ素微粒子発光体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-240083
公開番号（公開出願番号）：特開2009-132872
出願日： 2008年09月18日
公開日（公表日）： 2009年06月18日
要約：
【課題】ケイ素微粒子の可視光領域における発光特性、非毒性等を損なうことなく、液体に対する分散性を向上させる【解決手段】ケイ素微粒子発光体の製造方法は、不活性雰囲気下においてケイ素源と炭素源を含む混合物を焼成する工程と、不活性雰囲気から生成ガスを抜き出し急冷してケイ素微粒子を含む混合粉体を得る工程と、混合粉体をフッ酸および酸化剤を含むエッチング溶液に浸漬してエッチングする工程と、エッチング後のケイ素微粒子の表面に付加されたH原子を親水基を有する不飽和炭化水素基で置換する(終端処理という)と、を含む。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
不活性雰囲気下においてケイ素源と炭素源を含む混合物を焼成する工程と、
前記不活性雰囲気から生成ガスを抜き出し急冷してケイ素微粒子を含む混合粉体を得る工程と、
前記混合粉体をフッ酸および酸化剤を含むエッチング溶液に浸漬してエッチングする工程と、を含むことを特徴とするケイ素微粒子発光体の製造方法。
IPC (4件)：
C09K 11/08
, C01B 33/021
, C09K 11/00
, C09K 11/59
C09K11/08 D
, C01B33/021
, C09K11/00 C
, C09K11/59
4G072AA01
, 4G072BB05
, 4G072DD07
, 4G072GG03
, 4G072HH29
, 4G072JJ47
, 4G072KK17
, 4G072LL03
, 4G072MM01
, 4G072MM36
, 4G072MM40
, 4G072QQ06
, 4G072TT01
, 4G072UU30
, 4H001CA02
, 4H001XA14
