特許
J-GLOBAL ID：200903041652726104
磁気ヘッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
林 恒徳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-092458
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289413
出願日： 1997年04月10日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：
【要約】【課題】 加工モニター素子の抵抗値を測定しながら、磁気ヘッドを加工する磁気ヘッドの製造方法に関し、正確に抵抗値を測定する。【解決手段】 加工に伴い抵抗値Raがアナログ的に変化するモニター素子102aと、磁気ヘッド素子102とをウェハー100に形成した後、これを切り出す。次に、モニター素子102aの抵抗値を測定しながら、加工する。そして、加工後に、磁気ヘッド102を取り出す。そして、モニター素子102aと磁気ヘッド素子102の位置の差ΔIを測定しておき、差ΔIを用いて、モニター素子102aの抵抗値を、磁気ヘッド素子102の高さに変換する。これにより、マスク等の誤差を補正することができる。又、モニター素子102aの位置と、磁気ヘッド102の磁気抵抗膜83の位置を同一に設定することにより、パターンを正確に形成する。
請求項（抜粋）：
磁気ヘッドを製造するための磁気ヘッドの製造方法において、複数の磁気ヘッド素子と、前記磁気ヘッド素子の加工に伴い抵抗値がアナログ的に変化するアナログ抵抗を含むモニター素子とを、ウェハ上に形成するステップと、前記複数の磁気ヘッド素子と前記モニター素子とが直線状に並んだブロックを、前記ウェハから切り出すステップと、前記ブロックの前記モニター素子の抵抗値を測定しながら、前記磁気ヘッド素子の高さを所定の高さに加工するステップと、前記加工終了後、前記ブロックを個々の磁気ヘッドに分割するステップとを有し、前記形成ステップは、前記形成されたモニター素子の端部と前記形成された磁気ヘッド素子の端部との位置の差を測定するステップを有し、前記加工ステップは、前記位置の差を用いて、前記モニター素子の抵抗値を前記磁気ヘッド素子の高さに変換するステップと、前記磁気ヘッド素子の高さが目標値に達したことに応じて、前記加工を停止するステップとを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
引用特許：
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