特許
J-GLOBAL ID：200903042084665274
フォーカスモニタマスク及びフォーカスモニタ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-375472
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189264
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：
【要約】【課題】符号を含めたフォーカスずれ量を簡易に測定する。【解決手段】フォーカスモニタマークは、周辺部分の半透明膜部801、中央部分の遮光膜部802、そして開口部である第1のモニタマーク101及び第2のモニタマーク102から構成されている。第1のモニタマーク101及び第2のモニタマーク102には、長方形パターン110(110a,110b)と、この長方形パターン110の片側に形成された微細な凸型の先細りパターン111(111a,111b)とから構成されている。なお、第2のモニタマーク102では、半透明膜2を通過する露光光と開口部を通過する露光光とに90度の位相差を付けるために、基板1が例えば124nm堀込まれている。
請求項（抜粋）：
第1の開口部で囲まれた第1の膜で形成、又は第1の膜で囲まれた第1の開口部で形成され、先細りパターンからなる少なくとも1つの第1のモニタマークを含む第1のパターン領域と、第2の膜で囲まれて第2の開口部で形成、または第2の開口部で囲まれて第2の膜で形成され、第1のパターン領域の先細りパターンの先端部とは反対方向を向く先細りパターンからなり、通過する露光光の位相が第1のモニタマークを通過する露光光の位相とは異なる少なくとも1つの第2のモニタマークを含む第2のパターン領域とを含むフォーカスモニタマークを具備してなることを特徴とするフォーカスモニタマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 P
, H01L 21/30 526 Z
2H095BA02
, 2H095BB02
, 2H095BB03
, 2H095BC05
, 2H095BE07
, 5F046AA25
, 5F046BA04
, 5F046DA14
