特許
J-GLOBAL ID：200903042161917877
感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-252017
公開番号（公開出願番号）：特開2007-065353
出願日： 2005年08月31日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】特定構造の化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(I)で表されるスルホニウム塩化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BG00
, 2H025CB29
, 2H025CC20
, 2H025FA12
