特許
J-GLOBAL ID：200903042169629080

粉粒体用プラズマ処理装置

発明者：
与川 慎太郎

与川 慎太郎 について

, 
小泉 剛

小泉 剛 について


出願人/特許権者：
日本スピンドル製造株式会社

日本スピンドル製造株式会社 について


代理人 (1件)： 森 治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-370184
公開番号（公開出願番号）：特開2005-135736
出願日： 2003年10月30日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：
【課題】チャンバー内に収容した粉粒体に対して、均一にプラズマによる処理を行うことによって、粉粒体表面の洗浄、還元、活性化、製膜等の処理を高精度に行うことができるようにした粉粒体用プラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】粉粒体及び処理ガスを収容するチャンバー1と、該チャンバー1内にプラズマを発生させる高周波入力機構2又はマイクロ波入力機構8とを備えた粉粒体用プラズマ処理装置において、チャンバー1をその両端で回転支持するとともにチャンバー1の回転駆動源を備えており、チャンバー1の一端に回転軸を通して処理ガスの給気系71を連結し、チャンバー1の他端に回転軸を通して処理済ガスの排気系61を連結し、回転されたチャンバー1内の粉粒体にプラズマを作用させる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
粉粒体及び処理ガスを収容するチャンバーと、該チャンバー内にプラズマを発生させる高周波入力機構又はマイクロ波入力機構とを備えた粉粒体用プラズマ処理装置において、前記チャンバーをその両端で回転支持するとともにチャンバーの回転駆動源を備えており、チャンバーの一端に回転軸を通して処理ガスの給気系を連結し、チャンバーの他端に回転軸を通して処理済ガスの排気系を連結し、回転されたチャンバー内の粉粒体にプラズマを作用させることを特徴とする粉粒体用プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H05H1/46 ,  B01J19/08
FI (3件)：
H05H1/46 L ,  H05H1/46 B ,  B01J19/08 E
Fターム (22件)：
4G075AA22 ,  4G075BA06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA25 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EA03 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC11 ,  4G075ED01 ,  4G075ED04 ,  4K029BA62 ,  4K029CA12 ,  4K029DC06 ,  4K029DC35 ,  4K030EA03 ,  4K030EA12 ,  4K030FA12 ,  4K030KA01
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (9件)
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