特許
J-GLOBAL ID:200903042245425511

カルシウム・ホウ素複合酸化物含有酸化マグネシウム組成物及びその製造方法、並びにその用途

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 津国 肇 ,  篠田 文雄 ,  束田 幸四郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-214749
公開番号(公開出願番号):特開2004-052084
出願日: 2002年07月24日
公開日(公表日): 2004年02月19日
要約:
【課題】磁気特性及び絶縁特性、更に未反応物の酸除去性に優れたフォルステライト皮膜を形成でき、かつ性能が一定な焼鈍分離剤用酸化マグネシウム、更に本発明の焼鈍分離剤を用いて得られる方向性電磁鋼板を提供することにある。【解決手段】予め形成したカルシウム・ホウ素複合酸化物:CamB2Om+3(m=1〜3)を含むカルシウム・ホウ素複合酸化物含有酸化マグネシウム組成物及びその製造方法、並びにその用途である。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
予め形成したカルシウム・ホウ素複合酸化物:CamB2Om+3(m=1〜3)を含むことを特徴とする、カルシウム・ホウ素複合酸化物含有酸化マグネシウム組成物。
IPC (3件):
C21D9/46 ,  C01B35/12 ,  C23C22/00
FI (3件):
C21D9/46 501B ,  C01B35/12 B ,  C23C22/00 A
Fターム (17件):
4K026AA03 ,  4K026BA08 ,  4K026BB05 ,  4K026CA16 ,  4K026CA18 ,  4K026CA32 ,  4K026CA36 ,  4K026DA02 ,  4K026DA11 ,  4K026EB11 ,  4K033AA02 ,  4K033LA01 ,  4K033PA04 ,  4K033RA04 ,  4K033SA03 ,  4K033TA02 ,  4K033TA03
引用特許:
審査官引用 (13件)
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