特許
J-GLOBAL ID:200903042369500120
導電パターン製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
香取 孝雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-569032
公開番号(公開出願番号):特表2006-514487
出願日: 2003年08月29日
公開日(公表日): 2006年04月27日
要約:
本願発明は、金属酸化物を含む層を支持基板(2)に印刷し、その金属酸化物を金属に還元する導電パターン製造方法に関するものである。還元した層は貼付基板(7)に転写する。本願発明はまた、上記方法の使用に関するものである。
請求項(抜粋):
金属酸化物を含む層を支持基板(2)に印刷し、該金属酸化物を金属に還元する導電パターン製造方法において、還元した前記層は貼付基板(7)に転写することを特徴とする導電パターン製造方法。
IPC (6件):
H01P 11/00
, H01Q 1/38
, H01Q 7/00
, H01Q 9/16
, G06K 19/07
, G06K 19/077
FI (6件):
H01P11/00 N
, H01Q1/38
, H01Q7/00
, H01Q9/16
, G06K19/00 H
, G06K19/00 K
Fターム (9件):
5B035BA03
, 5B035BB09
, 5B035CA01
, 5B035CA08
, 5B035CA23
, 5J046AA19
, 5J046AB07
, 5J046AB11
, 5J046PA00
引用特許:
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