特許
J-GLOBAL ID:200903042369500120

導電パターン製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 香取 孝雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-569032
公開番号(公開出願番号):特表2006-514487
出願日: 2003年08月29日
公開日(公表日): 2006年04月27日
要約:
本願発明は、金属酸化物を含む層を支持基板(2)に印刷し、その金属酸化物を金属に還元する導電パターン製造方法に関するものである。還元した層は貼付基板(7)に転写する。本願発明はまた、上記方法の使用に関するものである。
請求項(抜粋):
金属酸化物を含む層を支持基板(2)に印刷し、該金属酸化物を金属に還元する導電パターン製造方法において、還元した前記層は貼付基板(7)に転写することを特徴とする導電パターン製造方法。
IPC (6件):
H01P 11/00 ,  H01Q 1/38 ,  H01Q 7/00 ,  H01Q 9/16 ,  G06K 19/07 ,  G06K 19/077
FI (6件):
H01P11/00 N ,  H01Q1/38 ,  H01Q7/00 ,  H01Q9/16 ,  G06K19/00 H ,  G06K19/00 K
Fターム (9件):
5B035BA03 ,  5B035BB09 ,  5B035CA01 ,  5B035CA08 ,  5B035CA23 ,  5J046AA19 ,  5J046AB07 ,  5J046AB11 ,  5J046PA00
引用特許:
審査官引用 (8件)
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