特許
J-GLOBAL ID：200903042519312492
研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-305262
公開番号（公開出願番号）：特開2009-125895
出願日： 2007年11月27日
公開日（公表日）： 2009年06月11日
要約：
【課題】開孔が略均一かつ略均等に形成され被研磨物の平坦性を向上させることができる研磨パッドを提供する。【解決手段】研磨パッド1は、研磨加工時に被研磨物の加工面に研磨液を介して当接する研磨面Pを有している。研磨パッド1は、イソシアネート基含有化合物と、鎖伸長剤と、水を200〜3000g/m3含む水蒸気混合気体と、を混合した混合液を型枠に注型し硬化させた発泡体をスライスすることで形成されている。研磨パッド1の内部には、水蒸気混合気体中の水とイソシアネート基含有化合物との反応により、略均一な大きさの発泡3が略均等に分散して形成されている。研磨面Pでは発泡3の一部が開孔しており、開孔4が形成されている。水蒸気混合気体が混合されるときに生じた微細な気泡が混合液中に略均等に分散され、水蒸気混合気体中の水が混合液中で略均等に分散される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
イソシアネート基含有化合物と、鎖伸長剤と、水を200g/m3〜3000g/m3含む水蒸気または前記イソシアネート基含有化合物および前記鎖伸長剤に対して非反応性の気体と前記水蒸気との混合気体と、を混合した混合液から形成された発泡体をスライスして得られたことを特徴とする研磨パッド。
IPC (3件)：
B24B 37/00
, H01L 21/304
, C08J 5/14
B24B37/00 C
, H01L21/304 622F
, C08J5/14
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CA06
, 3C058DA12
, 3C058DA17
, 4F071AA53
, 4F071AA88
, 4F071AE12
, 4F071AE13
, 4F071AF28
, 4F071DA20
