特許
J-GLOBAL ID：200903042672940346
レーザ加工装置及びその加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
谷 義一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-039850
公開番号（公開出願番号）：特開2007-216263
出願日： 2006年02月16日
公開日（公表日）： 2007年08月30日
要約：
【課題】加工対象物に所定の超微細パターンを有するナノ構造物を作製し、ナノ構造物の加工形状の評価を短時間で行うレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供すること。【解決手段】加工対象物102を載置して回転させる回転機構101と、加工対象物102の半径方向に直線移動可能な移動機構とを有し、レーザ光により加工対象物102の表面に形成されたビームスポットが軌跡を描きながら移動する。このビームスポットのレーザ光の光強度分布を調整することにより、加工対象物102に作製される超微細パターンを意図する形状になるよう調整する。調整におけるパラメータ値を設定するために、作製された超微細パターンの評価を超微細パターンからの反射光を評価することにより行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
熱反応型基材からなる加工対象物にレーザ光を照射し、該加工対象物の表面に所定の超微細パターンを形成するレーザ加工装置において、
前記加工対象物を回転させる回転手段と、
該回転手段により回転される前記加工対象物の回転面に向けて照射される前記レーザ光を、前記加工対象物の前記レーザ光が照射される位置における回転方向と前記レーザ光の照射方向に対して略垂直な方向に相対的に直線移動可能な移動手段と、
前記加工対象物に向けて前記レーザ光を出射する照射手段と、
該照射手段からの前記レーザ光を前記加工対象物の表面に集光してビームスポットを形成する対物レンズを含む光学手段と、
前記加工対象物に照射された前記ビームスポットの表面からの反射光を検出する光検出手段と、
前記レーザ光の光強度を直接変調することのできるレーザ駆動手段と、
前記光学手段により集光された前記ビームスポットの光強度分布を調整する調整手段とを備え、
該調整手段により調整された光強度分布のビームスポットにより、前記加工対象物に前記ビームスポットの径以下の所定の超微細パターンを有するナノ構造物を作製することを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (4件)：
B23K 26/073
, B23K 26/00
, B23K 26/08
, G03F 1/08
B23K26/073
, B23K26/00 N
, B23K26/00 P
, B23K26/08 F
, G03F1/08 Z
2H095BB08
, 2H095BB27
, 4E068AB00
, 4E068CA02
, 4E068CA11
, 4E068CA17
, 4E068CB05
, 4E068CB09
, 4E068CC01
, 4E068CD13
, 4E068CE02
, 4E068CE04
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (3件)
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