固体導入によるキャビテーション気泡増加方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-160548
公開番号（公開出願番号）：特開2005-007392
出願日： 2004年05月31日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】固体導入によるキャビテーション気泡増加方法及びその手段等を提供する。【解決手段】超音波照射下における液中への固体添加によりキャビテーション気泡を増加する方法、上記キャビテーションの増加によりOHラジカルならびに過酸化水素の生成を促進させることを特徴とする上記の方法、及び上記の方法による液中のキャビテーションの増加によりキャビテーション閾値を低下させることを特徴とするキャビテーション閾値の低下方法、及び上記方法を使用した超音波洗浄装置。【効果】任意の固体添加によりキャビテーションを増加する方法及び当該キャビテーション増加方法を利用した高性能の超音波洗浄装置を提供することができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

超音波照射下の液中に固体物質を存在させることによりキャビテーション気泡を増加させることを特徴とするキャビテーション増加方法。

IPC (2件)：

B01J19/10 , B08B3/12

FI (2件)：

B01J19/10 , B08B3/12 Z

Fターム (9件)：

3B201BB02 , 3B201BB83 , 3B201BB92 , 4G075AA13 , 4G075BA06 , 4G075BB08 , 4G075CA23 , 4G075EA01 , 4G075FB01

引用特許：

出願人引用 (3件)

ヒドロキシラジカルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-069369 出願人：明和工業株式会社
化学物質の分解法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-109699 出願人：バブコック日立株式会社
触媒反応による液処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-040759 出願人：スズキ株式会社

審査官引用 (7件)

有害ハロゲン化有機化合物の無害化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-308062 出願人：関西ティー・エル・オー株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-193903 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特表平3-504458

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