特許
J-GLOBAL ID:200903043250401228
表示装置及び表示装置の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
角田 芳末
, 磯山 弘信
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-217819
公開番号(公開出願番号):特開2007-035963
出願日: 2005年07月27日
公開日(公表日): 2007年02月08日
要約:
【課題】 表示装置において、各単位画素に対応する単位領域内に、耐熱性の低い材料や拡散特性のある材料によって構成される部材が予め形成された場合にも、各画素を構成する駆動素子の特性の均一化や生産性の向上を、レーザーアニールの効率を犠牲にすることなく可能とする。【解決手段】 互いに隣り合う第1及び第2の単位領域内を、前記基板の主面に直交する仮想面について、少なくとも一部対称な配置形状として形成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板上に、複数の薄膜トランジスタにより形成される単位画素が、2次元マトリクス状に多数個設けられた表示装置であって、
互いに隣り合う第1及び第2の単位画素内が、前記基板の主面に直交する第1仮想面について、少なくとも一部を対称な配置形状とされた構成を有する
ことを特徴とする表示装置。
IPC (5件):
H01L 21/20
, H01L 21/336
, H01L 29/786
, H01L 51/50
, H01L 21/268
FI (5件):
H01L21/20
, H01L29/78 627G
, H01L29/78 612Z
, H05B33/14 A
, H01L21/268 F
Fターム (52件):
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007GA00
, 5F110AA16
, 5F110AA30
, 5F110BB01
, 5F110CC07
, 5F110EE02
, 5F110EE04
, 5F110EE06
, 5F110EE36
, 5F110EE37
, 5F110EE38
, 5F110EE44
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG15
, 5F110GG19
, 5F110HK09
, 5F110NN02
, 5F110NN12
, 5F110NN24
, 5F110NN71
, 5F110NN73
, 5F110NN77
, 5F110PP03
, 5F110PP05
, 5F110PP06
, 5F110PP29
, 5F152AA08
, 5F152BB03
, 5F152CC09
, 5F152CD13
, 5F152CD14
, 5F152CD17
, 5F152CE05
, 5F152CF03
, 5F152FF03
, 5F152FF05
, 5F152FF41
, 5F152FG03
, 5F152FG08
, 5F152FG23
, 5F152FH04
, 5F152FH05
, 5F152FH08
, 5F152FH10
, 5F152FH20
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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