特許
J-GLOBAL ID：200903043396332112

排水処理方法および排水処理装置

発明者：
山嵜 和幸

山嵜 和幸 について

, 
坂田 和之

坂田 和之 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (2件)： 山崎 宏 ,  前田 厚司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-366696
公開番号（公開出願番号）：特開2006-289343
出願日： 2005年12月20日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：
【課題】被処理水と悪臭ガスを効率良く処理できると共に、イニシャルコストとランニングコストを低減できる排水処理装置および排水処理方法を提供する。【解決手段】この排水処理装置および排水処理方法は、第1の排水処理装置28が有する第1の脱窒槽1に、アミノエタノールとジメチルスルホキシドを含有する排水が導入される。第1の排水処理装置28が発生する悪臭ガスを、別の排水処理を行う別系統の第2の排水処理装置29で分解処理する。この悪臭ガスを分解処理する第2の排水処理装置29は、半嫌気部25を有する第2の硝化槽20を有し、この第2の硝化槽20とスクラバー11との間で循環される汚泥でもって、第1の排水処理装置28からスクラバー11に導入される悪臭ガスを処理する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
悪臭ガスと汚泥とを接触させる工程と、 上記悪臭ガスと接触させた汚泥と被処理水とを微生物濃度が10000ppm以上の高濃度微生物槽に導入する工程とを備えることを特徴とする排水処理方法。
IPC (7件)：
C02F 3/34 ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/72 ,  B01D 53/48 ,  C02F 3/30 ,  C02F 3/10
FI (8件)：
C02F3/34 101A ,  C02F3/34 101B ,  C02F3/34 101D ,  B01D53/34 116C ,  B01D53/34 120E ,  B01D53/34 121C ,  C02F3/30 A ,  C02F3/10 Z
Fターム (23件)：
4D002AA05 ,  4D002AA14 ,  4D002AA40 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA17 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002DA59 ,  4D002EA07 ,  4D002GB08 ,  4D002HA01 ,  4D003AA01 ,  4D003CA08 ,  4D003EA30 ,  4D003FA10 ,  4D040BB02 ,  4D040BB42 ,  4D040BB52 ,  4D040BB54 ,  4D040BB82 ,  4D040BB91
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特許第3467671号公報
  • 特許第3095620号公報
審査官引用 (18件)
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