特許
J-GLOBAL ID：200903043856524074
光導波路基板、光導波路部品、第二高調波発生デバイスおよび光導波路基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-236246
公開番号（公開出願番号）：特開平10-082921
出願日： 1996年09月06日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：
【要約】【課題】強誘電性光学単結晶基板にリッジ型の光導波路を形成するのに際して、光の伝搬損失を一層減少させ、消光比を増大させ、電界の印加の効率を向上させる。【解決手段】強誘電性光学単結晶からなる基板材料の主面上に少なくとも一層の光導波層(好ましくは、強誘電性光学単結晶のエピタキシャル膜)を形成し、光導波層および基板材料の主面側を機械加工(好ましくは切削加工)することによって、主面上に突出するリッジ部分24Bを形成する。リッジ部分24Bに、エピタキシャル膜からなる光導波路18を形成する。
請求項（抜粋）：
強誘電性光学単結晶からなる基板と、この基板の主面上に突出するリッジ部分とを備えており、このリッジ部分が、前記強誘電性光学単結晶からなる基部と、この基部上に形成されている光導波路とを備えていることを特徴とする、光導波路基板。
IPC (4件)：
G02B 6/122
, G02B 6/12
, G02F 1/035
, G02F 1/37
G02B 6/12 A
, G02F 1/035
, G02F 1/37
, G02B 6/12 H
