特許
J-GLOBAL ID：200903044137736503
半導体ウェーハ保管用クリーンボックスパージ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外10名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-369715
公開番号（公開出願番号）：特開2003-168729
出願日： 2001年12月04日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：
【要約】【課題】従来はクリーンボックス内部に窒素パージをする場合にはクリーンボックスの開閉装置と、クリーンボックスパージ装置とが別々に必要であった。また、この場合には汎用のクリーンボックスが使用できず、窒素パージ装置にあったクリーンボックスが必要となる。【解決手段】 下方に開口を有する本体部と、該開口を下方から塞ぎ、内面に半導体ウェーハの棚を有する開閉蓋とを備えるクリーンボックスの内部にガスをパージするパージ装置であって、壁部は開閉蓋の内面がガス導入口およびガス排出口より上側に位置するまで下降可能であって、該壁部は該開閉蓋の内面が該ガス導入口および該ガス排出口より下側に位置するまで上昇可能であることを特徴とするパージ装置により解決する。
請求項（抜粋）：
下方に開口を有する本体部と、該開口を下方から塞ぎ、内面に半導体ウェーハを格納する棚と外面に係合手段とを有する開閉蓋とを備えるクリーンボックスの内部にガスをパージするパージ装置であって、該係合手段に係合して該開閉蓋を載置するためのテーブルと、該開口の縁の端部と接触して該本体部を支えるフランジ台と、該フランジ台の下面と当接可能であってその内面が該テーブルの側面より外側になるように配置され、内面にガス導入口およびガス排出口とを有する壁部とを備え、該壁部または該テーブルは該開閉蓋の内面が該ガス導入口および該ガス排出口より上側に位置するまで相対的に移動可能であって、該壁部または該テーブルは該開閉蓋の内面が該ガス導入口および該ガス排出口より下側に位置するまで相対的に移動可能であることを特徴とするパージ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, B65G 49/00
, B65G 49/07
H01L 21/68 T
, B65G 49/00 A
, B65G 49/07 L
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031EA14
, 5F031EA20
, 5F031FA01
, 5F031FA15
, 5F031MA17
, 5F031NA02
, 5F031NA04
