特許
J-GLOBAL ID:200903044152608287
圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
杉本 丈夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-150049
公開番号(公開出願番号):特開平11-345027
出願日: 1998年05月29日
公開日(公表日): 1999年12月14日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備をより小形化して製造コストの引下げを図ると共に、ガス供給開始時のガスのオバーシュート現象の発生を防止し、流量制御精度や設備の信頼性を高めて、半導体等製品の品質のバラツキを少なくすると共に製品の製造能率を高める。【解決手段】 オリフィス5の上流側圧力を下流側圧力の約2倍以上に保持した状態でガスの流量制御を行なうガス供給設備に於いて、ガス供給源からガスを受け入れるコントロール弁2と、当弁の下流側に設けたオリフィス対応弁9と、前記コントロール弁とオリフィス対応弁との間に設けた圧力検出器3と、オリフィス対応弁の弁機構部の下流側に設けたオリフィスと、圧力検出器の検出圧力P1 から流量をQc=KP1 (但しKは定数)として演算すると共に、流量指令信号Qsと演算流量Qcとの差を制御信号Qyとしてコントロール弁の駆動部へ出力する演算制御装置6とから構成する。
請求項(抜粋):
オリフィスの上流側圧力をオリフィスの下流側圧力の約2倍以上に保持した状態でガスの流量制御を行ないつつオリフィス対応弁を通してプロセスへガスを供給するようにした圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備に於いて、ガス供給源からガスを受け入れるコントロール弁と、コントロール弁の下流側に設けたオリフィス対応弁と、前記コントロール弁とオリフィス対応弁との間に設けた圧力検出器と、オリフィス対応弁の弁機構部の下流側に設けたオリフィスと、前記圧力検出器の検出圧力P1 から流量をQc=KP1 (但しKは定数)として演算すると共に、流量指令信号Qsと演算流量Qcとの差を制御信号Qyとしてコントロール弁の駆動部へ出力する演算制御装置とからガス供給設備を構成し、コントロール弁の開閉を制御して圧力P1 を調整することにより供給ガス流量を制御するようにしたことを特徴とする圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備。
IPC (3件):
G05D 7/06
, F17D 1/00
, G05D 16/20
FI (3件):
G05D 7/06 Z
, F17D 1/00
, G05D 16/20 A
引用特許:
出願人引用 (7件)
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圧力式流量制御装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-212330
出願人:大見忠弘, 株式会社フジキン
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圧力式流量制御装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-144722
出願人:株式会社フジキン
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ガス制御装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-135266
出願人:株式会社本山製作所
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