混合ガス供給装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：杉本丈夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-153336
公開番号（公開出願番号）：特開平11-002400
出願日： 1997年06月11日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：

【要約】【課題】半導体製造装置に適用される混合ガス供給装置に於て、大流量のガスが小流量のガスの方へ逆流するのを適確に防止する。【解決手段】ガス供給ライン、マニホルド、流速調整器とで構成し、とりわけ、ガス供給ラインの通路断面積と流通するガス流量との比を略等しくする流速調整器を各ガス供給ラインに設ける。

請求項（抜粋）：

流量が異なる複数種類のガスが供給される複数のガス供給ラインと、各ガス供給ラインからのガスを混合させてガス使用対象に供給するマニホルドと、各ガス供給ラインに設けられて各ガス供給ラインの通路断面積と流通するガス流量との比を略等しくする流速調整器と、から構成した事を特徴とする混合ガス供給装置。

IPC (7件)：

F17D 1/02 , B01J 4/00 102 , F15D 1/02 , G05D 7/06 , G05D 11/13 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (7件)：

F17D 1/02 , B01J 4/00 102 , F15D 1/02 E , G05D 7/06 B , G05D 11/13 , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

引用特許：

出願人引用 (12件)

ガス供給装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-258578 出願人：東京エレクトロン株式会社
マスフローコントローラー
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-207174 出願人：ソニー株式会社
ガス流量制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-117865 出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社

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審査官引用 (12件)

ガス供給装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-258578 出願人：東京エレクトロン株式会社
マスフローコントローラー
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-207174 出願人：ソニー株式会社
ガス流量制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-117865 出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社

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