特許
J-GLOBAL ID：200903044312088099
荷電粒子ビーム装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-080043
公開番号（公開出願番号）：特開2004-288504
出願日： 2003年03月24日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】加工工程内のどこまで加工が進行したか、エラーが発生した場合は、どこで発生したかを容易に認識可能な荷電粒子ビーム装置を実現する。【解決手段】加工処理を加工種類別にグループ分けし(POSITION1、POSITION2、POSITION3)、処理開始順又は前処理(FABRICATION1〜3)と実際の加工処理(SPUTTER1)とに区別して階層化(Catalog1〜3)して表示し、表示された処理が、実行前か、実行中か、実行終了か、エラーが発生したかをそれぞれ区別して表示する。これにより、加工工程内のどこまで加工が進行しているか、エラーが発生した場合には、どこで発生したかをオペレータが容易に認識可能な荷電粒子ビーム装置を実現することができる。また、一時停止処理(SUSPEND)を、ある処理と次の処理との間に挿入して、定義するように構成したので、一時停止後に、追加処理を挿入することが容易に実行できる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを照射するための荷電粒子ビーム光学系と、この荷電粒子ビームの照射対象から発生する二次荷電粒子を検出する検出器と、この検出器で検出された二次荷電粒子に基づいて荷電粒子像を形成する画像表示手段とを備える荷電粒子ビーム装置において、
複数の種類の加工処理を加工種類毎にグループ化し、一つのグループ内毎に、加工処理順に序列を設定し、各加工処理毎に、加工処理前であるか、加工処理中であるか、加工処理終了であるかを、上記画像表示手段に表示することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J37/317 D
, H01J37/30 Z
